比如碳基芯片的雕刻技術，電路圖的設計等等。
芯片芯片被譽為現代工業的掌上明珠，其制造過程涉及多個工藝步驟。
包括氧化光刻、離子注入、化學機械研磨、刻蝕、淀積、金屬化、清洗等。
而在這些工藝步驟中，光刻技術尤為重要，是芯片制備的核心工藝之一，占芯片制造成本的35%以上
通常來說，芯片只能通過光刻機生產的主要原因是光刻技術具有高分辨率、高效率和多層次制造的能力。
越是高端的芯片，對光刻機的要求也就越高。
目前全世界能夠生產低納米級別光刻機的廠商，只有風車國的阿斯麥asml公司。
這是光刻機領域的霸主，擁有極紫外（euv）光刻機技術，能夠生產最先進制程芯片的關鍵設備，被臺積電、三星等芯片制造巨頭依賴，用于5納米及以下制程的芯片生產。
當然，阿斯麥asml公司也并不是風車國的，它的光刻機技術可以說來源于整個西方國家利益集團。
比如日耳曼國的蔡司公司提供的頂級光學元件，櫻花國提供的高質量光刻膠和單晶硅圓，光源來自米國的cyr公司等等。
也就是說，asml學會了金庸的武功秘笈，集百家之所長，為己所用，然后再通過自己的軟件來進行高級整合，真正做到了“一個好漢三個幫”，這就是asml的聰明之處。
相比之下，櫻花國的尼康和佳能就保守的多，比較注重武士道精神，喜歡單打獨斗，這也是櫻花國無法超越asml的一個重要原因。
而在光刻機或者說半導體這一塊，一直都是那些西方利益集團打壓他們的重要手段。
比如尖端的芯片，低納米的光刻機等等，他們在這一領域吃過不少次的虧。
無論是華威、小米，還是中芯國際，京東方等互聯網/通訊企業或半導體設備制造商，都是曾不公平的對待和惡意打壓遭遇過很多的挫折。
如果說發展碳基芯片依舊繞不開光刻機的話，碳基芯片的影響力、價值等等都將受到一定程度的限制。
對面，趙光貴搖了搖頭，道：“實驗制備和工業生產是兩個完全不同的概念。”
“實驗室不使用光刻機并不能說碳基芯片的生產就繞過了光刻機。實驗室環境做的芯片，可以借助儀器進行電路刻蝕，是不用借助光刻機的。”“但是這只是理論研究的方法，沒辦法批量生產。”
“而按照當前芯片制造的模式來看，所有大規模量產的芯片，都是通過光刻的方式，將電路圖刻到硅片上面去的，本身只是材料的不同。”
“其模式、流程其實還是一致的，都需要進行電路刻蝕。而電路刻蝕大規模批量生產，是無法繞過光刻機的。”
“所以目前中芯國際那邊加工碳基芯片，依舊是采用的類似硅基芯片的方法來處理的。”
停頓了一下，他的目光落在手中捏著的碳基芯片上，接著說道。
“當然，您所期待的繞過光刻機，通過其他方法雕刻碳基芯片晶體管的技術我們也正在組織人力物力進行研發。”
“比如電弧放電法、激光燒蝕法，化學氣相沉積法等方法來制備碳基芯片。”
“但目前來說這些技術還遠遠比不上傳統的光刻技術成熟，且在制備出來的芯片進程上要更大。”
“比如之前我們嘗試過使用電弧放電法和激光燒蝕法來制備碳基芯片，兩者能做到的芯片進程一個在微米級，另一個雖然達到了納米級，但也超過了五百納米。”
“要想繞開光刻機這一關鍵技術去加工雕刻碳基芯片，目前來說幾乎不可能，很難很難。”
簡單的解釋了一下，趙光貴的目光落在手中的芯片上。
事實上，想要繞開光刻機去制備碳基芯片的，又何止是眼前這位一個。
其他的不說，華威海思、中芯國際，甚至聯發科，臺積電，英特爾等等的半導體晶圓代工廠都想找到一條繞開光刻機加工芯片的道路。
這段時間他負責和華威海思、中芯國際等團隊的人配合生產研究碳基芯片的時候，也向那些專業的芯片研發人員咨詢過這個問題。