但是實際上，在現在這個時期，阿斯麥還是一個小公司，擠在菲利普總部旁邊的板房里辦公，要多慘有多慘，所以，現在起步的話，還不算晚
要說這個時代的巨頭，那就是大名鼎鼎的尼康了。
原因很簡單，因為光刻機的本質就是個投影機和照相機，用光來作為刀子，把設計好的電路投射到硅片上，尼康原本就是制造照相機的，屬于專業對口，這個年代的尼康，就和后世的阿斯麥一樣，手頭握著大批的訂單，其他工廠的采購人員，天天堵在尼康的大門口等著交貨。
不過，九十年代最大的光刻機巨頭尼康，衰落也是很快的，這其中有政治上的糾紛，也有技術路線的選擇錯誤。
在芯片領域里，有一個著名的摩爾定律，芯片的性能每隔18到24個月就得翻一倍，這樣，芯片的制造技術也得不斷地前進才行。
在現在這個時代，其實光刻機的技術還不是很難，畢竟阿斯麥的起家的時候，不過只有三十幾個人的團隊，甚至就連英特爾等不及尼康的光刻機，自己也可以做幾臺應急，不過就是把大批的零件買回來，拼拼湊湊，造個特殊的照相機。
尼康的牛逼之處，就是人家是產業鏈集合，所有的零件都能自己搞定。
但是，在進入九十年代，光刻機的生產商碰到了一個技術關卡光刻機使用的光源是193納米的，它就限制了光刻機的繼續升級
想要凋刻東西越精細，刀子就得越鋒利，193納米的激光已經不夠細了，接下來該怎么辦呢
尼康作為科技巨頭，想的辦法也很簡單，直接換用157納米的2激光，這樣就能解決問題了。
而為了對抗尼康成立的euvc聯盟則押注更激進的極紫外技術，將光源切換成十幾納米的極紫外光，這樣不僅僅能解決現有的問題，還能一直用到以后，刻十納米以下的芯片制程都沒問題。
但是，這兩種技術都不容易，都面臨著技術難關，這就是九十年代最出名的193納米關卡
凡是遇到難關的時候，總是有天才出現的，現在也不例外，一個名叫林本堅的鬼才工程師出現了。
當光線透過水之后，頻率不變，但是波長會發生變化，這就是水的折射率，所以，只要在光刻機的光源和硅片之間加一層水，讓原本的193納米的激光發生一次折射，不就能大大地降低了嗎
簡單計算就能知道，波長會降低到132納米
這樣，不僅僅能降低了光刻機的波長，刻蝕更加精密的電路，而且，對機器的改動還最小
以前的就叫做干刻法，現在可以叫做濕刻法了
林本堅提出來了這項技術，興致勃勃地跑出去推銷，但是，全部都吃了閉門羹
美國、德國、日本，一個個的光刻機巨頭，面對著這個說法都是嗤之以鼻在精密的機器中加入水，成為一個浸潤環境，就不怕水漏了嗎短期來看，這個辦法可能會成功，但是長期來看，根本就是在走彎路
尤其是巨頭尼康，決定在157納米的光源上研究，根本就不搭理林本堅這種歪門邪道。