一般的方法肯定賣不過去，但在燕京負責對外貿易同志的想辦法下，他們找到了一條路，走芬蘭做轉口貿易。
關于如何走芬蘭過一遍先按下不表，接著回到51區。
對王守覺和王守武兩兄弟來說，目標是制造一塊包含多個晶體管、電阻和電容的單片集成電路。
其中包括了硅材料提純、平面工藝、光刻、刻蝕和互連等技術。
而且此時的華國缺乏精密半導體制造設備，光刻機和晶圓切割機都很缺乏。
最開始大家只能使用鋸子手工切割硅片，并通過人工拋光達到所需平整度。
光刻工藝需要高精度掩模和曝光系統更是只能依靠自制設備。
“守覺，這塊硅片的表面粗糙，刻蝕不均勻。我們的光刻設備精度不夠。”
“是的，我們只能靠手工調整掩模和曝光時間。必須再試幾次。”
大家都深知設備限制，不得不自力更生。
最開始團隊只能自制光刻掩模，通過反復試驗優化曝光和顯影工藝。
設計最簡單的光學系統，利用現有顯微鏡改裝，勉強實現微米級圖案化。
這樣搞，無論是良率還是穩定性都特別差。
好在東德的合作很快到來，就像一陣春風，東德在光學儀器上，幫助他們快速解決了原本無法解決的關卡。
一個接一個的克服，能做到微米級的步進式光刻機打造出來后，芯片印刷上的難題都迎刃而解。
按照原歷史，華國本來也在1965年，由華國科學院微電子研究所和申海光學儀器廠一起合作，研發出了華國第一臺65型接觸式光刻機。
《1956-1967年科學技術發展遠景規劃綱要》里關于半導體技術制定的計劃，幾乎都實現了。
只是現在，因為有了更具體的目標。
65式這種只是基于研發的機器是肯定無法滿足。
華國和東德合作，造出來要更符合實際生產需要，已經和原本1985年才搞出來的分步光刻機相差不大了。
剩下的就是高純度的硅，國內硅片常含雜質。
進口高純硅受限。
從區域精煉工藝到爐子改造，再到溫度精準監控。
這些都無法依賴東德，只能靠自己。
樹莓派在這個過程中起到了巨大作用。
改進后的區域精煉設備，如果只考慮溫度控制系統，這套基于樹莓派計算打造的溫度控制系統，比德州儀器的還要更先進。
不過越是研發，華國科研人員內心的緊迫感就更甚。
畢竟整個51區知道樹莓派存在的人里，從上到下，沒有一個會覺得樹莓派只有華國有。
大家都很清楚，阿美莉卡也有，而且只會更多。
在這樣的想法下，他們都以為自己只是接近阿美莉卡最先進水平。
壓根想不到，他們基于便攜式計算機打造的整套技術，有不少都站在了世界先進水平。
光刻、刻蝕和互連工藝是集成電路制造的核心，過去華國缺乏相關經驗。
光刻掩模對準困難，刻蝕深度難以控制，金屬互連常出現斷路或短路。
dtl電路邏輯功能驗證了，但良率太低，互連問題始終無法解決。
金屬沉積的均勻性不夠。
圖案的精度不夠。