“這就是極紫外光源成功了”
許黎疑惑道。
“是的，我們已經成功將該光源研制出來了，再經過我們多次重復試驗以及對比論證，現在，過程極紫外光刻光源已經完成了研制，加上我能獨立設計的透鏡物鏡及其光學系統，其性能超過目前國漢斯貓的5倍左右，如果能夠配合好的其他光刻機部件，那該組裝完成的光刻機可以綜合提升35左右，可以制作性能優秀的5納米芯片”
徐教授興奮地解釋道。
他還從來沒有相關，一個工業明珠上的皇冠的一個核心部件，就這樣被他們攻克了。
只要給他們時間，燧人科技也能擠進全球半導體頂尖玩家的殿堂，成為euv光刻機部件供應鏈的廠商之一。
到時候也能在半導體領域上擁有自己的話語權，即使沒有擁有全套的光刻機制造技術，但是起碼不至于讓國內這么的被動。
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“既然如此，我們也應該通知一下我們的盟友，想必他們也等急了。”
許黎一笑。
“好”
徐華應了一聲。
春城，長光電所
陳所長此刻正愁著怎么改進光刻機呢。
雖然之前已經通過花為的牽線搭橋和燧人科技搭上了，主要是合作改造現有光刻機。
而這個改造的光刻機主要是28n的光刻機，因為現在國內的光刻機也只能勉強達到28n工藝。
據魔都微電子透露，明年他們有望交付首臺國產28納米工藝浸沒式光刻機。
算是在剛好邁在高端光刻領域的門檻，也就是現在國內的光刻科技水平還停留在中端水平。
根據光刻機工藝水平，光刻機主要劃分為超高端、高端、中端、低端四個層次。
首先，光源euv135n、節點5n7n的光刻機是處于超高端層次的，全球只有as這一家公司可以組裝制造。
其次，光源ar浸入式，節點在728n處于高端層次的。
最后，光源arkrie，且節點是65n或90n的，分別處于中端、低端層次。
注意，這里的arkr指的是深紫外光刻光源。
想要制作更好的的芯片，那就得造出更好的光源，比如極紫外光源euv。
即使是這種ar28n光刻機和as公司最先進的euv5n光刻機工藝有著天壤之別。
但是也能將國內的光刻水平提升到世界先進水平，完全可以滿足常見的射頻芯片、藍牙芯片、功放芯片、電器的驅動芯片等絕大部分邏輯芯片的要求，以及大部分數字芯片的要求。
陳所長也聽說三桑目前正在研究3n芯片工藝的光刻機，也許很多人都以為很厲害，但是對于他這種業界的人自然知道其中的道道。
現在的7n或5n芯片，不是從前的含義，最準確的是牙膏廠的命名，只是它也學壞了。
芯片的納米制程并不是真的幾納米，更多是一種更新迭代的說法。
上一代可能是4n，下一代根據摩爾定律乘以根號7，差不多3n。
以前的制程是指晶體管的寬度，現在則是晶體管的溝道寬度，就出了這種個位數的納米制程。
就像目前三桑研究的3n光刻機，由于極紫外光刻技術受到光電效應的影響，可能其實際線精度在十幾納米或20納米。
不過這種納米制程的芯片如果不用euv光刻機的話，也是弄不了的。
雖然各廠家的命名方法各有所別，但也不是完全沒有意義。
長光機電所也在為接下來的14n工藝光刻機刻苦攻堅。
只是沒有極紫外光源，想要做成這樣的光刻機恐怕很難。
“唉”
陳所長也知道這需要不長的時間，可能幾年、幾十年，甚至最壞的結果失敗。
但是還是要繼續攻研技術，要不然以后只能被人牽著牛鼻子走啊。
就在陳所長滿心憂愁的時候，一個電話響了起來，打斷了他的思緒。
他接起來一聽，頓時眼睛睜瞪如燈籠般大小，驚聲道
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