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            第255章 打小報告的黃鶴(3 / 3)

            但這依然是目前最有可能成功的技術。

            EUV技術,這是技術前景最為光明的,但也是最困難的技術,因為這個技術要從直接改革光源入手,將目前的光刻機光源改革成為紫光,直接從光源上,把50納米的極限提升到13.5納米的極限,提升幅度可謂巨大,絕對是市場前景最為廣闊的技術。

            這個技術難度極高不說,關鍵是幾乎所有的專利和門檻都掌握在美國人的手里面,分布在英特爾,AMD,摩托羅拉和美國能源部這些單位之中,尼康手里面幾乎沒有這方面任何的技術專利。

            本來作為美國的小老弟,以前的日本或許還有機會加入到這樣的專利聯盟手中,但是自從花園廣場協議一簽,所有日本人都知道美國是打定了主意要打壓日本的半導體行業,他們是絕不可能允許日本企業進入到EUV技術聯盟之中的,否則花園廣場協議就白簽了。

            這里就不得不說一句,其實美國是一家,非常公平和公正的國家,對于能夠威脅到自己技術優勢的對手,他們會立刻打壓。

            同樣的,如果是自己的狗威脅到了自己的技術優勢,那也是一樣要打壓的。

            比如在90年代后期,日本的半導體行業幾乎已經要將美國的半導體行業給徹底撕碎了,他們占據了90%以上的市場。

            結果花園廣場協議一簽,日本半導體行業瞬間崩潰,等到了2020年,日本的半導體行業連茍延傳統的資格都沒有了,直接就變成了一具尸體,而日本政府卻只能對美國唯唯諾諾,連一句反對的聲音都聽不到。

            不像中國,來,大家正面干。

            咳咳,言歸正傳就,其實在技術上還有一個比EUV更加夢幻的技術,叫做接近式X光技術,這個技術可以將光源從13.5納米,一口氣提升到一納米的水平,這是顯然是一個更加瘋狂的光刻機技術。

            而這也是目前整個日本光刻機行業傾力投入的技術,他們夢想著一旦等這個技術開花結果,那就算是EUV再怎么排斥日本也是抓瞎,因為大家根本就不在一個水平面上面了。

            只不過,倪光南曾經非常形象的形容過這個技術陣營,說這是一個浪漫主義的技術陣營,大家就當科幻小說來讀就好了。

            其實后面還有更加科幻的技術,比如光源波長在千分之四納米的EBDW技術。

            還有更加恐怖的光源波長在十萬分之五納米的IPL技術,這些技術,估計要等到擊敗三體人之后,才有可能看到了。

            總而言之,目前尼康等企業正在全力投入的F2激光技術,是目前最有可能成功的技術,也是尼康走的最遠的技術,但就算是這樣的技術,才能夠完成技術,然后進行生產……等到完全的商業化,恐怕就要等到2010年左右了。

            結果黃鶴現在告訴尼康,阿斯麥只需要兩年的時間就能夠拿出突破極限的光刻機出來,領先了尼康足足三年以上的時間,木村真琴就算是當場暈倒,那也是正常的。

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