許秋和范文堂交流了一會兒，解答了對方提出的幾個問題，然后走到韓嘉瑩那邊，查看學妹寫文章的進度。
韓嘉瑩正在撰寫PTQ系列材料光電性能的描述部分，看到許秋走了過來，有些開心，主動聊了起來。
然后，許秋就發現學妹的工作效率直線下降，一邊聊天一邊打字，好幾個單詞都拼寫錯了。
于是，許秋和學妹打了聲招呼，果斷開溜，還是不打擾她了。
許秋再次前往里間實驗室，查看莫文琳的實驗進展。
莫文琳現在還在基于許秋組會上的思路進行摸索，到現在一共制備了兩批器件。
雖然她制備的器件最高效率達到了已經超過了學妹之前創下的效率記錄，但是距離許秋摸索出來的還是有一個百分點的差距。
畢竟是現實嘛。
現實和模擬實驗室相比，除了摸索用時比較長這個最大的不同之外，在具體的實驗次序上也有差異。
比如膜厚與轉速的對應關系，在現實中做實驗，不會上來就先做這個。
而是會先通過調控溶液濃度、轉速，把最佳的條件摸索出來。
再去補充掃描電子顯微鏡、光吸收光譜表征，換算得到膜厚與轉速、濃度的對應關系。
進而得到最優條件下的有效層的膜厚，繪制出器件效率隨底電池、頂電池膜厚變化的二維圖譜。
也就是說，現實中做疊層器件，不是按照頂電池、底電池膜厚來規劃的，而是按照溶液濃度、轉速來規劃的。
在做器件的時候并不知道具體的膜厚，只有一個大概的估計，比較吃經驗。
主要也是現實中做實驗，需要從節省時間的角度來考慮，而在模擬實驗室中就不需要這般考慮，怎么方便怎么來。
當然，這也不是什么非常關鍵的問題，雖然表述方法不同，但背后的邏輯是一致的。
許秋檢查了一下莫文琳的實驗規劃，發現她在膜厚的優化區間中存在一些問題。
她過多的參考了原先三元底電池，二元頂電池疊層器件的經驗。
而實際上，現在發展成為二元底電池，三元頂電池疊層器件后，情況有了很大的不同。
比如，原先三元底電池，二元頂電池的最優條件，是頂電池厚度110納米，底電池厚度220納米。
現在的二元底電池，三元頂電池的最優條件是，頂電池厚度130納米，底電池厚度190納米。
偏差了20-30納米的膜厚，反應在器件效率上，可能就會相差1%-2%。
另外，現實中用到的是以濃度、轉速作為實驗條件的，當體系發生變化后，比如二元體系變更為三元體系，同樣濃度、轉速下得到的膜厚也會與之前有所不同。
換言之，看似只是把PCBM的位置挪動了一下，實際上前后兩個體系的差異已經非常大了，因此需要重新摸索條件。
現在的莫文琳，就相當于在16%等效率線的邊緣不斷摸索，自然取得難以突破。
許秋要做的事情，就是把她引導到16%等效率線中心的位置，去找到那個可以突破17%的機會。